双温对置摆荡式染样机

发明专利号：ZL200510039068.1


双温对置摆荡式染样机
　　XW-BDR系列摆荡式染样机，是针对振荡式染样机有烦人的振动和噪声以及寿命短而研制成功的。它应用往复惯性力完全平衡原理，采用对置活塞式发动机的成熟结构和四连杆平摆机构，极限工作速度远比振荡机高。它几乎没有烦人的振动和噪声，大大提高匀染性和工作寿命，该机胜任振荡式染样机的全部工作，属于环保型产品。

主要技术参数
1、加热介质：水
2、工作温度：室温-98°C
3、杯子容积（ml）：100，250，300
4、杯子数量：12和24
5、控温精度：±0.5℃
6、加热电源：AC380V50Hz
7、控制电源：AC220V50Hz
8、摆荡速度：无级调节≤200次/分
9、可提供500ml，800ml特殊规格




返回